Маска восстанавливающая и успокаивающая способствует ускорению реабилитационного периода после аппаратного лечения и аппаратных процедур.
Показания: уход за кожей после аппаратного лечения и лазерных процедур, для чувствительной кожи, при гормонозависимых дерматитах. Для кожи после загара, сухой кожи, возрастной кожи, для предотвращения пигментации.
Состав: вода, глицерин, метилпропандиол, пропиленгликоль, трегалоза, гидролизованный коллаген, бетаин, азиатикозид, 1,2-гександиол, гидроксиацетофенон, гиалуронат натрия, экстракт центеллы азиатской, корень софоры узколистной, церамид NP, аммония полиакрилоилдиметил таурат, гидроксиэтилцеллюлоза, динатрий ЭДТА, аллантоин, бета-глюкан, пентиленгликоль, глицерил каприлат, каприлгидроксаминовая кислота, этилгексилглицерин, полисорбат 60, динатрий фосфат, фосфат натрия.
Мембрана маски: фруктовое волокно.
Разверните и нанесите на кожу на 20 минут после аппаратных процедур (предварительно охладить).
Стерильная упаковка гарантирует отсутствие риска инфекции и максимальную безопасность при применении.
Бренд - ZQ-II
Проблематика - Зуд и раздражение, Покраснения, Сухость, стянутость кожи
Назначение - Антивозрастной уход, Восстановление кожи, Обновление, регенерация кожи, Увлажнение кожи, Успокаивающий уход, Устранение воспалений, Уход до и после косметических процедур
Вид средства - Маска
Зона применения продукта - Лицо
Страна производства - Китай
Вид косметики - Профессиональная
Код - ЭХ99989463953
Вы можете оставлять отзывы только к товарам, купленным на Pharmacosmetica.ru
Авторизуйтесь для того, чтобы оставить отзыв
© 2009-2025 Pharmacosmetica
Интернет-магазин лечебной и профессиональной косметики - Центр Здоровья Кожи